1TE016 · Uppsala universitet
Tunnfilmsteknik I
Ny kurs
Inga tentor än
Ladda upp dina tidigare tentor och få hjälp med att strukturera ditt studiematerial
Få dina tentauppgifter kategoriseradeBli guidad genom ditt studiematerialFå hjälp direkt med teori och tipsHåll koll på dina framsteg
HP
5
Språk
Svenska
Nivå
Avancerad nivå
Fakultet
Teknisk-naturvetenskapliga fakultetsnämnden
Institution
Institutionen för materialvetenskap
Lärandemål
Efter godkänd kurs ska studenten kunna:
- diskutera skillnader och likheter mellan vakuumbaserade deponeringstekniker för tunna filmer,
- bedöma och använda modeller för kärnbildning och filmtillväxt,
- värdera samband mellan deponeringsteknik, filmernas struktur och deras egenskaper,
- diskutera vanliga tillämpningsområden för tunna filmer,
- motivera val av deponeringsteknik för olika tillämpningar.
Kursinnehåll
Skiktbeläggning är ett viktigt område inom tillverkningsindustrin där ett materials egenskaper kan förbättras om ytan modifieras. Kursen innehåller deponering med olika PVD-processer som förångning, sputtring och plätering samt olika varianter av kemiska beläggningsmetoder (CVD och ALD). Användning av plasmaprocesser för tillväxt av tunna filmer. Fundamentala kemiska och fysikala processer inom området tunnfilmsteknik. Substratytans betydelse för filmtillväxt och olika metoder för att tillgodose kraven på substratytan såsom plasmaetsning och kemomekanisk polering. Modeller för kärnbildning och filmtillväxt. Morfologi och textur och deras inverkan på filmernas egenskaper. Tillämpningar för olika tunnfilmsmaterial och deponeringsmetoder.
Förutsättningar
- 130 hp inom teknik/naturvetenskap. Antingen Materialkemi och genomgången kurs i Ytors fysik och kemi eller Ytfysik. Genomgången kurs i Ytavbildning eller Yt- och materialanalys. Engelska 6. (Med en svensk kandidatexamen uppfylls kravet på engelska.)
Liknande kurser vid andra universitet
Gör som 15 000+ studenter och ta kontroll över ditt tentaplugg.
Kom igång gratis