motivera och diskutera val av metod för ytkarakterisering genom att jämföra prestanda för och bedöma lämplighet av olika metoder utifrån en given frågeställning,
beskriva principerna, inklusive växelverkan mellan prob och provyta, för ytavbildning och profilmätning med elektron-, ljus-, interferens- och svepspetsmikroskop, samt beskriva konstruktionen av vissa instrument,
beskriva principerna för svepelektronmikroskopi (SEM) och röntgenspektroskopi (EDS) i SEM,
förklara och värdera resultat och kvalitet och beskriva inverkan av inställningar och prestanda hos instrumenten.
Kursinnehåll
I kursen introduceras moderna ytkarakteriseringsmetoder för avbildning, beskrivning och mätning av ytor. Metoder som behandlas är bl.a. svepelektronmikroskopi (SEM), röntgenspektroskopi i SEM (EDS), ljusmikroskopi (LOM), interferensmikroskopi (CSI), svepspetsmikroskopi (SPM), nålprofilometri och ytstatistik. Metoderna används inom både akademisk och industriell forskning och utveckling.
Förutsättningar
60 hp inom teknik/naturvetenskap. Kvantfysik eller Kvantmekanik och kemisk bindning II ska vara genomgångna.